一、才道精密自主研发国产首条110寸偏光片分选机成功交付

二、隆利科技多层结构光学薄膜获得专利证书

隆利科技日前发布公告称，公司近日收到了由国家知识产权局颁发的一项发明专利证书，专利名称为“多层结构光学薄膜”，专利号为ZL201910644770.2。

据悉，该专利提供一种多层结构光学薄膜，对单侧入射光具有高反射率，有效地减小光束的发散度，产生准直效果，从而改善光束的角度，同时对另一侧的入射光具有高透过率，可作为反射片使用，使光学信号有效穿透，有利于降低背光显示模组的功耗，提升亮度。

隆利科技在公告中指出，上述专利为公司自主研发，未来将陆续在公司相关业务中应用。该专利的取得不会对公司生产经营造成重大影响，但有助于推动自主创新，发挥公司自主知识产权技术优势，完善知识产权保护体系，从而增强公司核心竞争力。（文章来源：集微网）

三、南大光电：ArF光刻胶验证工作正在多家下游主要客户稳步推进

近日，南大光电在投资者互动平台表示，目前公司ArF光刻胶的验证工作正在多家下游主要客户稳步推进，且针对同一客户的不同需求开发了不同的产品，以满足下游客户的多样化需求。光刻胶是客制化产品，技术含量高，验证周期通常需要18个月甚至更长的时间。

南大光电在技术方面占据一定优势，凭借多年的自主研发和实践积累，掌握了MO源、高纯ALD/CVD前驱体、氢类电子特气、含氟电子特气、ArF光刻胶等关键电子材料的核心技术，先后承担了国家863计划MO源全系列产品产业化项目及多项国家“02专项”，攻克了多个困扰我国数十年的技术难题，填补了多项国内空白，为半导体产业链的协同发展贡献力量。

南大光电表示，公司坚定围绕“为用户提供更安全、经济、绿色的高品质电子材料，成为国内一流，具有国际竞争力的电子材料公司”这一战略目标，坚守“真正的高科技、真正的产业化、真正的全球化”发展标准，践行“安全第一、以客户为中心、以业绩为标准”三项基本原则，聚焦主业，不断发展壮大，力争实现“前驱体材料国际领先，电子特气国内一流，ArF光刻胶成功产业化”。（文章来源：南大光电）