国泰真空成功研制超低减反射膜

国泰真空表示，此次使用的镀膜设备为国泰真空研发的1350型镀膜机，制备的超低减反射膜可以达到420-680nm、Rave<0.1%的光谱目标，并且能够通过高温水煮、摩擦测试等环测要求，连续镀膜结果无异常。从而验证了国泰真空自主研发的射频源、电子枪具有稳定性和设备的可靠性，满足批量生产的需求。（文章来源：国泰真空）

万顺新材反射膜已应用于折叠屏

秋田微电子纸膜片与模组项目获新进展

深圳秋田微电子股份有限公司近日发布公告称，报告期末，公司电子纸膜片与模组项目已完成实验室阶段的膜片和模组演示样品开发，光学指标达到行业水平，开始进行小批量委外涂布、电子纸膜片和模组大样制作及可靠性测试；同时，公司有序推进募投项目“电子纸模组产品生产线项目”的建设工作，已完成中试设备涂布机订购，开始中试车间装修。